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PECVD von Diamantschichten

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Methoden der Diamantabscheidung auf großen Flächen
von: W&L Coating Systems GmbH

 

W&L PECVD

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Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition
PECVD
Prinzipien, Stärken und Schwächen
von: W&L Coating Systems GmbH

 

NCS 3-150

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The NCS 3-150 is a revolutionary new MW Plasma CVD deposition system for low temperature growth of diamond and graphene based films. This system enables poly crystalline diamond compatible thin film growth over a very broad range of materials for device integration, biocompatible coatings and other advanced applications.

 

Beschichtungstechnologie

 

Wir bieten kundenspezifische Lösungen im Bereich des Magnetron Sputterns und der plasmachemischen Gasphasenabscheidung (PECVD), sei es als es Komponenten oder Komplettlösungen. Komplettiert wird unser Portfolio durch Verbesserungen und Umbauten bestehender Systeme.

Prozesse

 

Unser umfangreiches Know-How in der Vakuumbeschichtung ermöglicht es uns, Lösungen für ein breites Spektrum an Oberflächenfunktionalisierungen kostengünstig anzubieten. Sollte unsere eigene Kompetenz nicht ausreichend sein, können wir durch unsere gute Vernetzung gegebenenfalls auch auf externes Fachwissen zurückgreifen.

Schichtanalyse / QS

 

Neben der Wirtschaftlichkeit ist die Gewährleistung der Eigenschaften von wesentlicher Bedeutung für die Abscheidung dünner Schichten. Wir verfügen über notwendige Analysemethoden zur Beurteilung der Qualität dünner Schichten und möglicher Ursachen im Versagensfall.

Beratung

 

Wir stellen unsere langjährigen Erfahrungen auch als Beratungsleistungen zur Verfügung. Ob es sich um Wirtschaftlichkeitsbetrachtungen oder um technologische Verbesserungen, Produktivitätssteigerungen oder Fehleranalysen an Vakuumbeschichtungsanlagen handelt, unsere Spezialisten können (fast) immer helfen.