当涉及众多零部件的功能性和装饰性涂层的质量、耐久性和可持续性时,溅射镀膜显然是一种优越且首选的工艺。其众多优势包括:更高的材料密度、改善的附着力、更高的耐磨性、更高的导电性,以及无需使用化学品且无废水产生的薄膜生产工艺。
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磁控溅射工艺在面积达18平方米的平面基板上沉积超薄金属或陶瓷层已成为工业标准。这意味着进一步提高经济效益是当前研发的重点。
随着管状溅射靶材的引入,材料利用率和沉积速率都获得了显著提升。这种方法可实现高达80%的溅射材料利用率,相比技术复杂的动态平面阴极约50%的利用率,以及静态平面阴极约35%的利用率,这是一个重大改进。