PVD - NMS 250 / NMS-BM 270 | W&L-Coating Systems

该系统独特的圆柱形靶材设计确保了未沉积在基板上的溅射材料会返回到溅射靶材上，从而可立即用于后续镀膜。

未被重新沉积到溅射靶材上的材料会被系统相对较小的前侧铜屏蔽吸收，这些屏蔽层易于回收。通过这种方式，材料利用率得到了最大化，贵重材料的损耗降为零 - 与传统溅射系统相比具有显著优势。

• 复杂三维物体的经济高效、高质量镀膜
• 高产能的批量镀膜系统
• 贵重溅射靶材零损耗
• 环保工艺
• 靶材快速便捷更换
• 无需专业人员操作

NMS 250

NMS250镀膜系统适用于溅射镀制单个零件或小批量3D物体，其镀膜尺寸范围约为长度200毫米，直径Ø60毫米。

这是一款紧凑经济型的贵金属"台式"磁控溅射系统。配备250毫米长的靶材，适用于单个零件的镀膜。从装料到点燃等离子体放电全程耗时不足10分钟，靶材更换仅需数秒即可完成。

NMS-BM270

NMS-BM 270
小批量溅射系统

NMS-BM 270批量材料镀膜系统专为小批量3D物体溅射镀膜而设计，总处理材料体积可达0.3升。

从装料到点燃等离子体放电全程耗时不足10分钟。镀膜速率约为5-20纳米/分钟，具体取决于材料和工艺参数。

靶材更换可在10分钟内完成。

沉积前可采用逆磁控溅射对基板进行蚀刻或清洁预处理。在后续溅射工艺中，贵金属或其他材料将以高效节约的方式沉积到3D物体上。

系统可预先装载不同靶材，以便快速切换工艺。

即装即用
- 让我们开始吧

这些紧凑型台式系统配备"独立运行"所需的所有组件，可快速投入使用。您仅需单相电源和工艺气体（氩气）。系统配备带集成计算机的可编程逻辑控制器(PLC)和操作显示屏。

"系统软件可存储和调用多种工艺配方。相较于腔体容积，其隔膜泵与涡轮分子泵(TMP)组合的抽速较高，能实现较低的极限真空和快速抽气时间，这对高效生产至关重要。这些系统是经济高效、高质量镀膜的理想平台，适用于广泛的功能性和装饰性应用。专为昂贵镀膜材料开发，能实现3D物体无浪费镀膜。NMS 250和NMS-BM 270是真正的""交钥匙""系统。"