通过管状靶材在等离子体区域（即靶材侵蚀发生处）的持续旋转，可实现靶材的高效冷却，这使得靶材表面功率密度可达平面靶的2-3倍。更高的功率密度自然提升了磁控溅射阴极的可实现沉积速率，从而显著提高其成本效益。
RTM 25/80
带紧凑端块的旋转管式磁控溅射靶系统
RTM 25/80管状阴极采用模块化设计。紧凑端块集成有靶管旋转驱动系统和0-360°磁场旋转机构，同时集中了所有控制接口、溅射电源接口和冷却水接口。可通过加装轴套适配特定设备结构。
磁场系统和靶材冷却装置作为集成单元被封装在靶管内。标称靶长可按50毫米增量在200至1000mm范围内自由选择。
端盖用于封闭靶管，可扩展加装对向轴承，从而实现更长靶长（约2000mm）的配置。
主要技术特点
- 端块兼容直流（DC）、交流（AC）、单极和双极脉冲电源
- 靶管内高效冷却水路设计，支持阴极任意安装方位运行
- 配备可360°旋转的电机驱动磁场系统
- 适用于各种靶材（适配Ø80毫米支撑管，无对向轴承时最长1米；加装对向轴承可延长）
- 端块与管道冷却系统设计支持最高30千瓦电功率
- 实现均匀靶材侵蚀
PECVD - NCS 12 / NCS 48
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PVD - NMS 250 / NMS-BM 270
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