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我们将于2024年6月10日至14日，在法兰克福ACHEMA 2024展会上展示全新研发的创新型硼掺杂金刚石电极及电解槽废水处理技术。欢迎莅临11.0馆C77展位参观交流。

我们使用微波驱动的平行排列可调数量线性等离子体源平面阵列，该技术是大规模生产纳米晶金刚石等薄膜材料的优选方案。

通常该标准系统平台由多个铝合金框架和法兰组成，这些框架和法兰内置水冷系统，并承载着工艺气体供应管道、等离子体源阵列、基片载具单元以及真空抽气端口。

此技术采用特殊排布的永磁体产生磁场，在待溅射靶材表面附近，通过电能或电磁能激发形成特定形态的等离子体放电。通常，溅射等离子体放电会形成所谓的闭合跑道形状。等离子体中的氩离子被加速轰击靶材，产生靶材物质的蒸汽，这些蒸汽将在基板上冷凝形成薄膜。

采用管状靶材的磁控溅射阴极已广泛取代平面靶设计。溅射过程中靶管持续旋转的特性，使该技术在沉积速率、材料利用率和经济效益方面较平面磁控溅射阴极具有显著优势。